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退火炉温控件的研究分析


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摘要:退火炉温控件对整个退火设备的工艺直到决定作用,是值得研究分析的

       退火炉温控件对整个退火设备的工艺直到决定作用,是值得研究分析的。硅片作为退火炉温控件的重要部件,它表面温度边缘效应的因素,提出灯管分区及分区控制的设计方案,实现硅片表面温度的均匀性;通过非接触式温度测量原理的分析,完成光学高温计选型、测温方案以及温度校准设计,实现温度的测量,基于系统模型的温度控制器设计保证了温度控制的精度与稳定度;在分析硅片传送功能性要求的基础上,完成传送系统流程设计,实现了系统传片效率与传片的高可靠性;控制系统功能性设计、总体架构以及主控制程序流程图设计实现整机的全自动化,保证系统具有自动化水平高、控制和管理功能强大、操作简便、可靠性高等特点,能很好地适应快速退火炉系统对自动控制的要求。

       退火设备是近代大规模集成通路生产工艺内中中的重要设备。重要用来离子注入后杂质的激活、浅结制作、成长高品质的氧化膜层和非金属硅化物合金构成等工艺。随着集成通路工艺技能的飞速停滞,发展快捷退火炉零碎的技能钻研,对海内开发和钻研存在自主常识产权的快捷退火炉设备,有着非常不足道的实践意思和工事利用价格。

    公司对准现代半超导体器件退火工艺对快捷退火炉零碎的技能务求,在综合综合海内外各族快捷退火沪零碎技能根底上,经过深刻的综合钻研,设计了零碎总体技能计划。拟定采纳灯火辐射型热源安装,高低两排成正交的灯管组对坐落其旁边的半超导体硅片继续间接加热兑现热度的快捷回升,以单点测温作为热度测量的克服计划作为零碎总体计划.依据热传播根本实践,以兑现零碎总体技能指标作为己知参数划算失去零碎所须要的热功率,在此根底上兑现热源与反响腔体、结冰零碎、嘘气零碎等元件的设计。

       经过综合莫须有硅片名义热度边缘效应的成分,提出灯管分区及分区掌握的设计计划,兑现硅片名义热度的匀称性;经过非接触式热度测量原理的综合,实现光学低温计选型、测温计划以及热度校准设计,兑现热度的测量,基于零碎模子的热度掌握器设计保障了热度掌握的精度与稳固度;在综合硅片传递性能性务求的根底上,实现传递零碎流程设计,兑现了零碎传片效率与传片的高牢靠性;掌握零碎性能性设计、总体架构以及主掌握程序流程图设计兑现整机的全主动化,保障零碎存在主动化程度高、掌握和治理性能壮大、操作简便、牢靠性低等特点,能很好地相配快捷退火炉零碎对主动掌握的务求。


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